Главная Случайная страница


Полезное:

Как сделать разговор полезным и приятным Как сделать объемную звезду своими руками Как сделать то, что делать не хочется? Как сделать погремушку Как сделать так чтобы женщины сами знакомились с вами Как сделать идею коммерческой Как сделать хорошую растяжку ног? Как сделать наш разум здоровым? Как сделать, чтобы люди обманывали меньше Вопрос 4. Как сделать так, чтобы вас уважали и ценили? Как сделать лучше себе и другим людям Как сделать свидание интересным?


Категории:

АрхитектураАстрономияБиологияГеографияГеологияИнформатикаИскусствоИсторияКулинарияКультураМаркетингМатематикаМедицинаМенеджментОхрана трудаПравоПроизводствоПсихологияРелигияСоциологияСпортТехникаФизикаФилософияХимияЭкологияЭкономикаЭлектроника






Ключ на статическом индукционном транзисторе





Рис. 4.17

Переходные процессы переключения СИТ основаны на сложной природе физических явлений, протекающих в структуре прибора [2,3]. Данные процессы описываются нелинейными дифференциальными уравнениями второго порядка, которые с трудом удается приводить к более простым аналитическим формам, содержащим, к тому же, большое количество электрофизических параметров. Это не совсем удобно для разработчиков схем, оперирующих, главным образом, стандартными справочными данными и характеристиками. Поэтому при описании работы ключа (рис. 4.17) главное внимание будет обращено на сущность физических этапов переключения и их влияние на стандартные временные параметры.

Перед тем как рассматривать основные стадии переключения, остановимся на некоторых физических эффектах закрытого состояния ключа. Для перевода СИТ в режим отсечки не достаточно просто перекрыть канал ОПЗ управляющего перехода. Необходимо также обеспечить вокруг истока достаточное электрическое поле, тормозящее движение электронов от высоколегированной области истока к стоку. Таким образом, запирающее напряжение между затвором и истоком должно удовлетворять условию:

(4.39)

где VCM — напряжение смыкания ОПЗ между двумя соседними ячейками затвора;

к — коэффициент пропорциональности, зависящий от технологии структуры;

VDS — напряжение на выходе ключа;

n — показатель степени.

Показатель степени n принимает значение единицы или 0.5 в зависимости от того, достигает ОПЗ управляющего перехода высоколегированной области стока или нет.

Для высоковольтных СИТ, как правило, это выполняется и с учетом неравенства кVDS >> VCM для напряжения отсечки можно записать:

(4.40)

где VОТС — напряжение отсечки на проходной ВАХ нормально открытого транзистора (рис. 4.18).

Если напряжение VDS< Vогр, где Vогр — напряжение ограничения, при котором ОПЗ достигает максимальных границ, отсечка определяется уравнением:

(4.41)

Параметр Vогр зависит от типа прибора (например, для СИТ типа КП926 Vогр =250В).

Таким образом, закрытое и открытое состояние СИТ при заданном выходном напряжении определяется по цепи управления параметрами

VОТС и VCM:

VGS > VОТС — закрытое состояние ключа;

VGS < VCM — открытое состояние ключа.

 

На практике напряжение отсечки оценивают с помощью коэффициента блокировки μ:

(4.42)

где Е— напряжение питания ключа.

В области выходных напряжений VDS < VОГР параметр μ возрастает пропорционально , что следует из уравнения (4.41).

Таким образом, для поддержания нормально открытого СИТ в закрытом состоянии в цепи затвора необходимо поддерживать отрицательное смещение:

(4.43)

Процесс включения осуществляется скачкообразным уменьшением отрицательного напряжения входного генератора до нуля (полевой режим) либо форсированным изменением EIN до некоторого положительного уровня E+IN, обеспечивающего режим входного тока затвора (биполярный режим):

(4.44)

На первом этапе переходного процесса включения происходит уменьшение входного отрицательного смещения от начального значения Е¯Г до напряжения отсечки. На данном этапе, называемом задержкой включения tD(on), ток стока практически равен нулю. Скорость уменьшения напряжения затвор—исток определяется внутренним сопротивлением цепи генератора Rг и входной емкостью СИТ CDU = CGS + CGD. Величину tD(on) можно оценить по формуле:

(4.45)

(E+IN ≈ 0 для полевого режима).

На этапе формирования фронта включения различают три стадии. На первой происходит уменьшение выходного напряжения ключа от значения Е до напряжения ограничения VОГР. На данном этапе динамические емкости транзистора практически не зависят от выходного напряжения VDS, которое описывается уравнением:

(4.46)

где Ro — параметр, характеризующий сопротивление участка объемного заряда подвижных электронов в канале;

τ1 — постоянная времени спада выходного напряжения.

На следующей стадии (стадия свободного расширения ОПЗ) при VDS < Vогр начинается заметный рост проходной емкости CGD:

(4.47)

При этом усиливается эффект обратной связи (эффект Миллера) и спад напряжения VDS замедляется (рис. 4.19). Вторая стадия заканчивается, когда напряжение VGS достигает напряжения смыкания VCM. На последнем этапе включения VGS изменяется от VCM до нуля, при этом ток стока определяется ВАХ открытого транзистора. В переходном процессе выключения при малых значениях RIN СИТ закрывается достаточно быстро, а время выключения определяется постоянной RLCGD. По этой причине стадия запирания существенно меньше времени включения и увеличивается с ростом нагрузки.

Рис. 4.19

При биполярном режиме работы СИТ качественный характер переходного процесса включения будет аналогичен рассмотренному, пока напряжение VGS не достигнет порога отпирания входного перехода транзистора (≈ 0.7 В).

При VGS > 0.7 В в канал СИТ начинается инжекция неосновных носителей, при этом ток в цепи затвора определяется формулой:

(4.48)

При достаточной величине IG концентрация неравновесных носителей заряда будет расширяться в сторону стока, уменьшая сопротивление канала и напряжение сток—исток. Так как стоковый n+-n¯-переход отражает дырочные носители тока, у истоковой и стоковой границ канала возникает накопление избыточного заряда носителей подобно режиму насыщения биполярного транзистора. Для характеристики глубины насыщения используют статический коэффициент передачи тока в схеме с общим истоком В:

(4.49)

При этом режим насыщения определяется условием:

(4.50)

Сопротивление открытого СИТ при накоплении неравновесных носителей уменьшается от единиц—долей ома, характерных для полевого режима, до десятков миллиом, что снижает общие статические потери в ключе. Однако биполярный режим работы увеличивает стадию задержки три выключении, необходимую для рассасывания избыточного заряда, которую по аналогии с биполярным транзистором называют временем рассасывания:

(4.51)

где τР — время жизни дырок в канале в режиме насыщения;

I+G, I¯G — амплитуда отпирающего и запирающего тока затвора.

В процессе выключения при биполярном режиме обратносмещенный управляющий переход осуществляет вынос инжектированных дырок, находящихся в области канала. На этапе формирования потенциального барьера в канале дырки попадают в ускоряющее поле, втягивающее их в затвор. Электроны, наоборот, оттесняются данным полем к оси канала и к стоковой области. В результате происходит интенсивное рассасывание накопленного заряда, сопровождающееся протеканием относительно большого по амплитуде отрицательного импульса тока затвора. Выключение СИТ в данном режиме качественно аналогично переключению диода из прямого состояния в обратное. Ограничение амплитуды IG- следует выбирать с учетом обратной ОБР СИТ для биполярного режима работы. Характерные диаграммы переключения представлены на рис. 4.20.

 

а б

Рис. 4.20

а б

Рис.4.21

 

Остановимся на зависимости временных параметров переключения в биполярном режиме оттоков нагрузки и управления (рис. 4.21). Наиболее сильной является зависимость времени рассасывания tD как от степени насыщения (тока нагрузки), так и от условий запирания (отрицательного тока затвора). Длительность фронтов переключения tR и tF изменяется незначительно в пределах 20...50 нc, поскольку определяется главным образом полевыми эффектами в структуре.

При данных скоростях изменения тока следует особое внимание обращать на паразитные индуктивности схемы, которые не должны превышать значения 100...150 нГн.

При переключении высоковольтных СИТ и БСИТ-транзисторов (VDS > 400 В) на низкоомную нагрузку в переходных процессах наблюдаются эффекты квазинасыщения, аналогичные рассмотренным для биполярных транзисторов (рис. 4.22). Данные эффекты обусловлены модуляцией сопротивления высокоомного эпитаксиального слоя стока у высоковольтных транзисторов.

Основными параметрами, характеризующими режим квазинасыщения, являются Сопротивление канала СИТ на границе активного режима и динамического насыщения, а также временные параметры — время установления ts и время квазирассасывания еQD.

При низкоомной нагрузке (единицы и доли ом) эффект квазинасыщения увеличивает динамические потери и сильно искажает форму выходных импульсов. Для сглаживания данного эффекта рекомендуется применять параллельные сборки СИТ, количество отдельных ключей в которых выбирается из условия:

(4.52)

где rГР — граничное сопротивление открытого канала при переходе в режим квазинасыщения (0.3...3 Ом);

RL — сопротивление нагрузки.

Возможна также некоторая регулировка временных параметров по входной цепи транзистора (рис. 4.23).

а б

Рис. 4.23

 

Date: 2015-05-09; view: 1161; Нарушение авторских прав; Помощь в написании работы --> СЮДА...



mydocx.ru - 2015-2024 year. (0.006 sec.) Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав - Пожаловаться на публикацию