Полезное:
Как сделать разговор полезным и приятным
Как сделать объемную звезду своими руками
Как сделать то, что делать не хочется?
Как сделать погремушку
Как сделать так чтобы женщины сами знакомились с вами
Как сделать идею коммерческой
Как сделать хорошую растяжку ног?
Как сделать наш разум здоровым?
Как сделать, чтобы люди обманывали меньше
Вопрос 4. Как сделать так, чтобы вас уважали и ценили?
Как сделать лучше себе и другим людям
Как сделать свидание интересным?
Категории:
АрхитектураАстрономияБиологияГеографияГеологияИнформатикаИскусствоИсторияКулинарияКультураМаркетингМатематикаМедицинаМенеджментОхрана трудаПравоПроизводствоПсихологияРелигияСоциологияСпортТехникаФизикаФилософияХимияЭкологияЭкономикаЭлектроника
|
Температурный метод
Температурный метод, или метод Грея – Брауна, основан на анализе изменения напряжения плоских зон V FB МДП‑структуры при изменении температуры T. При изменении температуры полупроводника меняется объемное положение уровня Ферми. Закон изменения φ 0(T), а следовательно и φ 0(E), известен и в области полной ионизации примеси довольно прост. Из выражения (3.83) для напряжения плоских зон V FB следует, что при изменении температуры . (3.119) Графическое дифференцирование соотношения (3.119) приводит к выражению для N ss: . (3.120) Основным достоинством температурного метода является тот факт, что этим методом возможно получить величину плотности поверхностных состояний N ss вблизи краев запрещенной зоны. К недостаткам метода следует отнести необходимость измерений в широком интервале температур T = (77÷400) К и трудность расчета, а также необходимость выполнения критерия высокочастотности в широком диапазоне температур. На рисунке 3.21а, б, в приведены экспериментальные C ‑ V кривые, их изменение с температурой и результаты расчета. Рис. 3.21. Расчет плотности поверхностных состояний температурным методом: а) экспериментальные высокочастотные ВФХ МДП‑структур Si‑SiO2‑Al при разных температурах T; б) зависимость измерения напряжения плоских зон Δ V FB и положения уровня Ферми φ 0 в объеме полупроводника от температуры; в) зависимость плотности ПС N ss от энергии E в запрещенной зоне полупроводника, рассчитанная из уравнения (3.120) по этим экспериментальным данным 3.7. Флуктуации поверхностного потенциала в МДП‑структурах Date: 2015-05-05; view: 511; Нарушение авторских прав |