Полезное:
Как сделать разговор полезным и приятным
Как сделать объемную звезду своими руками
Как сделать то, что делать не хочется?
Как сделать погремушку
Как сделать так чтобы женщины сами знакомились с вами
Как сделать идею коммерческой
Как сделать хорошую растяжку ног?
Как сделать наш разум здоровым?
Как сделать, чтобы люди обманывали меньше
Вопрос 4. Как сделать так, чтобы вас уважали и ценили?
Как сделать лучше себе и другим людям
Как сделать свидание интересным?
Категории:
АрхитектураАстрономияБиологияГеографияГеологияИнформатикаИскусствоИсторияКулинарияКультураМаркетингМатематикаМедицинаМенеджментОхрана трудаПравоПроизводствоПсихологияРелигияСоциологияСпортТехникаФизикаФилософияХимияЭкологияЭкономикаЭлектроника
|
Температурная зависимость концентрации свободных носителей зарядаРазрешенные зоны содержат огромное количество уровней (1022 – 1023 в 1 см3), на каждом из которых могут находиться электроны. Фактическое же количество электронов зависит от концентрации доноров и от температуры. Чтобы оценить фактическую концентрацию носителей в полупроводнике, нужно знать распределение уровней и вероятность заполнения этих уровней. Энергетическое распределение электронов в твердом теле определяется статистикой Ферми-Дирака. Принципиальный результат функции распределения Ферми-Дирака дает вероятность того, что электрон занимает уровень, соответствующий энергии Е: (1.3) Общее число электронов в кристалле можно определить следующим образом (1.4) где f(E) – функция распределения Ферми-Дирака, g(E) – функция плотности энергетических состояний. Можно показать, что (1.5) Рассчитывая интеграл (1.4) и учитывая, что концентрации n и р электронов и дырок в собственном полупроводнике одинаковы, получим температурную зависимость концетрации носителей заряда в виде ( 1.6 ) где Eg – ширина запрещенной зоны полупроводника, а С – некоторая константа. Температурная зависимость подвижности носителей заряда. В твердом теле движущиеся электроны непрерывно испытывают столкновения с узлами кристаллической решетки, примесями и дефектами, т. е. испытывают рассеяние. Равноускоренное движение под действием поля возможно только в коротких интервалах между столкновениями на длине свободного пробега. После каждого столкновения электрон, грубо говоря, должен заново набирать скорость. В результате средняя скорость электронов и дырок пропорциональна напряженности поля, коэффициент пропорциональности называется подвижностью: Таким образом, подвижность – это скорость движения носителей заряда при единичной напряженности поля. Подвижность, обусловленная рассеянием на узлах решетки, находится по формуле (1.7) Если преобладает рассеяние на ионах примеси, то: (1.8) Константа С зависит от материала и типа проводимости. Например, для кремния С ≈ 5/2. Учет двух процессов приводит к следующему выражению для подвижности: Результирующая подвижность близка к меньшей из двух составляющих μL и μI. Для кремния при температурах Т >0ºС меньшей оказывается составляющая μL; поэтому зависимость μ(Т) описывается формулой (1.7): подвижность уменьшается с ростом температуры. При Т <-50ºС меньшей оказывается составляющая μI; поэтому зависимость μ(Т) описывается формулой (2.93): подвижность уменьшается с уменьшением температуры. Поскольку в рассматриваемом интервале температур определяющим механизмом рассеяния является рассеяние на фононах, то температурная зависимость подвижности определяется . Однако среди отмеченных особенностей механизмов проводимости определяющей при формировании свойств полупроводникового резистора является экспоненциальная температурная зависимость концентрации носителей заряда собственного полупроводника. Поэтому окончательное выражение можно представить в виде (1.8) где 0– предэкспоненциальный множитель, зависящий от природы полупроводника. Данное выражение можно записать и для полной электрической проводимости G (1.9) которая связана с электрическим сопротивлением R соотношением G =1/ R и G 0=1/ R 0. Тогда (1.10) Задачей данной работы является снятие вольтамперной характеристики полупроводникового терморезистора, изучение температурной зависимости его термосопротивления и определение ширины Egзапрещенной зоны исследуемого собственного полупроводника.
|