Полезное:
Как сделать разговор полезным и приятным
Как сделать объемную звезду своими руками
Как сделать то, что делать не хочется?
Как сделать погремушку
Как сделать так чтобы женщины сами знакомились с вами
Как сделать идею коммерческой
Как сделать хорошую растяжку ног?
Как сделать наш разум здоровым?
Как сделать, чтобы люди обманывали меньше
Вопрос 4. Как сделать так, чтобы вас уважали и ценили?
Как сделать лучше себе и другим людям
Как сделать свидание интересным?
Категории:
АрхитектураАстрономияБиологияГеографияГеологияИнформатикаИскусствоИсторияКулинарияКультураМаркетингМатематикаМедицинаМенеджментОхрана трудаПравоПроизводствоПсихологияРелигияСоциологияСпортТехникаФизикаФилософияХимияЭкологияЭкономикаЭлектроника
|
Закономірності дифузійного насичення
Механізм дифузії є основою утворення дифузійних покриттів. Виявлення цього механізму ілюструється прикладом утворення покриттів з парогазової фази Із загальної кількості частинок N0 речовини А, які досягають поверхні тіла В за одиницю часу, одна частина Np ревипаровується (відбивається), інша – Nк конденсується і залишається в чистому вигляді на поверхні, третя – Nд поглинається тілом В. Поглинання відбувається як за рахунок дифузії А в В, так і в результаті зустрічної дифузії речовини В у А. Швидкість зустрічного процесу іноді може на два-три порядки перевищити швидкість прямого процесу. Таким чином, для отримання дифузійних покриттів необхідно, щоб основа гарно розчиняла атоми матеріалу покриття, який наноситься, і температура основи була достатньою для інтенсивного проходження дифузійних процесів. Основними стадіями формування покриттів є: 1) очищення поверхні від оксидних плівок (їх розчинення, відновлення); 2) отримання елемента покриття в атомарному стані (з пари, з газової, рідкої та твердої фаз); 3) перенесення елемента покриття у будь-якому транспортному середовищі (газ, пара, рідкий розчин); 4) адсорбція на поверхню і зародкоутворення кристалічної структури зовнішнього шару покриття (твердий розчин або сполука); 5) зміна складу і структури в прилеглому об’ємі основного металу, а також ріст шарів покриття (формування одно- або багатокомпонентних покриттів в перехідній зоні). 8Іонна імплантація
Отримання і формування пучків іонів здійснюється в спеціальних іонно- променевих установках. Використовують декілька схем установок До головних елементів установки іонного легування належать: джерело іонів, мас-сепаратор, системи прискорення, формування і сканування пучка, камера обробки, вакуумна система. Джерела іонів повинні забезпечувати можливість отримання високоінтенсивних пучків іонів (десятки і сотні міліампер) та необхідний ступінь іонізації атомів твердих тіл. До головних елементів установки іонного легування належать: джерело іонів, мас-сепаратор, системи прискорення, формування і сканування пучка, камера обробки, вакуумна система. Джерела іонів повинні забезпечувати можливість отримання високоінтенсивних пучків іонів (десятки і сотні міліампер) та необхідний ступінь іонізації атомів твердих тіл.
Date: 2015-09-02; view: 405; Нарушение авторских прав |