Полезное:
Как сделать разговор полезным и приятным
Как сделать объемную звезду своими руками
Как сделать то, что делать не хочется?
Как сделать погремушку
Как сделать так чтобы женщины сами знакомились с вами
Как сделать идею коммерческой
Как сделать хорошую растяжку ног?
Как сделать наш разум здоровым?
Как сделать, чтобы люди обманывали меньше
Вопрос 4. Как сделать так, чтобы вас уважали и ценили?
Как сделать лучше себе и другим людям
Как сделать свидание интересным?
Категории:
АрхитектураАстрономияБиологияГеографияГеологияИнформатикаИскусствоИсторияКулинарияКультураМаркетингМатематикаМедицинаМенеджментОхрана трудаПравоПроизводствоПсихологияРелигияСоциологияСпортТехникаФизикаФилософияХимияЭкологияЭкономикаЭлектроника
|
Вольт-амперная характеристика идеализированного р-n-перехода
Идеализированным является р-n-переход, для которого приняты следующие допущения. 1. В обедненном слое отсутствует генерация, рекомбинация и рассеяние носителей зарядов, т.е. предполагается, что ток носителей заряда одного знака одинаков на обеих границах перехода. 2. Электрическое поле вне обедненного слоя отсутствует, т.е. полупроводник вне перехода остается электрически нейтральным и в нем носители могут совершать только диффузионное движение. 3. Электрическое сопротивление нейтральных р- и n-областей считается пренебрежимо малым по сравнению с сопротивлением обедненного слоя, т.е. все внешнее напряжение практически полностью приложено к обедненному слою. 4. Границы обедненного слоя считаются плоскопараллельными, а носители заряда перемещаются по направлению, перпендикулярному к этим плоскостям. Концентрации носителей зависят только от одной координаты. По определению (2.30) прирост концентрации неосновных носителей в области n (дырок), т.е. избыточная концентрация их,
Аналогично избыточная концентрация электронов – неосновных носителей в p-области при инжекции
на границе с p-областью
на границе с n-областью
Связь для состояния равновесия может быть найдена из (3.9):
Для неравновесного состояния вместо (3.29) следует писать
Из (3.31) получим зависимость избыточных концентраций неосновных носителей от U при инжекции:
С учетом (3.33), (3.23) и (3.24) найдем избыточные концентрации неосновных носителей на границах перехода
Следовательно,
С учетом этого вместо формул (2.52) напишем
Подставив результаты дифференцирования (3.35) в формулы (3.36), получим значение плотности токов в любом сечении х:
Плотность диффузионного тока убывает по направлению (от границы перехода) и при х = 0 имеет максимальное значение
Подставив в эти выражения
По закону непрерывности тока найденная плотность будет в любом сечении n- и р-областей. Умножив на площадь сечения перехода S, получим формулу для тока:
Окончательно запишем эту формулу в виде
где
Выражение (3.40) и представляет собой вольт-амперную характеристику идеализированного р-n-перехода (формула Шокли), а параметр
Зависимость
При Т = 293К (t = 20°С) для кремния DТудв = 5°С, для германия DТудв = 8°С, для арсенида галлия DТудв = 3,6°С. Нетрудно также определить изменение тока при любом приращении температуры Date: 2016-07-18; view: 574; Нарушение авторских прав |