Оборудование для электронной литографии

Электронолитография предназначена для формирования топологических рисунков в чувствительных к электронам резистах. Электронно-лучевые установки (ЭЛУ) могут проводить экспонирование электронорезиста тонко сфокусированным пучком электронов, отклоняемым электрическими и магнитными полями по программе от ЭВМ. ЭЛУ состоят из большого количества сложных устройств. На рис. 10.5 приведена типовая схема ЭЛУ, которая состоит из трех основных блоков: фотокопировального устройства или телекопира 1, электронно-оптической системы (ЭОС), которые позволяют проводить одновременный перенос изображения шаблона или маски на участок электронорезиста, с камерой экспонирования 2 и видеоконтрольного устройства 13. Электронный пучок от кинескопа 10, пройдя через фокусирующее устройство, считывает рисунок топологии на фотошаблоне 11 и передает информацию на фотоумножитель 12. Информация от фотоумножителя поступает в блок управления 14 видеоконтрольного устройства с кинескопом 15 и

Рисунок 10.5 – Принципиальная схема установки электронно-лучевого экспонирования

и электронными линзами 7. электронный пучок воздействует на фоторезистивный слой на поверхности подложки 6. Блок 9 служит для управления системой отклонения луча и приводами 3 и 4 перемещения координатного стола 5.

В электронной литографии используются электронные пушки мощностью до 1 кВт, которые должны обладать высокой яркостью, максимальной плотностью тока и минимальными (до нанометров) размерами поперечных сечений пучка. Конструкции электронных пушек приведены на рис.10.6. Источники электронов выполняются в виде катодов трех типов: прямоканальный V-образный вольфрамовый термоэмиссионный катод (а); эмиттеры с повышенной яркостью выполняются в виде стержня изгексаборида лантана (б);

Рисунок 10.6 – Конструкции электронных пушек

автоэмиссионный источник электронов (в). На рис. 10.7 приведены основные ЭОС, применяемые в электронолитографии.

Рисунок 10.7 – Электронно-оптические системы