Полезное:
Как сделать разговор полезным и приятным
Как сделать объемную звезду своими руками
Как сделать то, что делать не хочется?
Как сделать погремушку
Как сделать так чтобы женщины сами знакомились с вами
Как сделать идею коммерческой
Как сделать хорошую растяжку ног?
Как сделать наш разум здоровым?
Как сделать, чтобы люди обманывали меньше
Вопрос 4. Как сделать так, чтобы вас уважали и ценили?
Как сделать лучше себе и другим людям
Как сделать свидание интересным?
Категории:
АрхитектураАстрономияБиологияГеографияГеологияИнформатикаИскусствоИсторияКулинарияКультураМаркетингМатематикаМедицинаМенеджментОхрана трудаПравоПроизводствоПсихологияРелигияСоциологияСпортТехникаФизикаФилософияХимияЭкологияЭкономикаЭлектроника
Насос форвакуумный НФ-8
Насос форвакуумный НФ-8 предназначен для откачки воздуха, химически неагрессивных газов, паров и парогазовых смесей, предварительно очищенных от капельной влаги и механических загрязнений в вакуумных технологических установках.
Предельное остаточное давление, не более 5*10-3 мм рт. ст.
Мощность, потребляемая насосом при номинальном напряжении электропитания в безрасходном режиме, не более 1,1 кВт
Габаритные размеры 450х210х240 мм
Масса насоса, не более 28 кг.
Заключение.
В ходе выполнения курсовой работы были подробно рассмотрены методы получения тонких плёнок, их схемы работы, а также достоинства и недостатки
представленных методов:
| Метод | Основные достоинства | Основные недостатки |
| Термовакуумное напыление | Высокая чистота осаждаемого материала; | Нерегулируемая скорость осаждения |
| Ионно-плазменный метод | Высокая управляемость процессом; лучшая адгезация плёнок к поверхности; | Высокая температура процесса; возможность распыления только проводящих материалов |
| Ионно-лучевые методы | Возможность нанесения плёнок материалов сложного состава; малое рабочее давление; отсутствие электрических полей; | Сложность реализации; высокая стоимость оборудования; высокая температура процесса |
| Молекулярно – лучевая эпитаксия | Низкая температура процесса; высокая точность управления уровнем легирования; | Большое количество источников-нагревателей |
| Лазерное распыление | Обеспечивает меньшее термическое воздействие и смешивание материала подложки с напыляемым материалом | Высокая стоимость оборудования |
| Магнетронное распыление | Траектория движения электрона замкнутая; ионизация газа происходит непосредственно вблизи поверхности мишени. | Возможность распыления только проводящих материалов; малая скорость роста плёнки. |
Во второй части курсовой работы рассмотрена разработка технологического процесса напыления тонких плёнок путём магнетронного напыления и определена требуемая быстрота откачки вакуумного насоса для вакуумной камеры типа FL 500.
Подходящим насосом для данного типа камеры, является высоковакуумный диффузионный насос АВДМ-160, с быстротой действия 310 л/с и предельным вакуумом 5x10-7 мм.рт.ст., работающий в паре с форвакуумным насосом марки НФ-8.
Список используемой литературы.
1. Данилин Б.С. «Основы конструирования вакуумных систем» 1971 г. изд «Энергия».
2. Григорьев Ф.И. Плазмохимическое и ионно-химическое травление в технологии микроэлектроники. Учебное пособие. М.: 2003.
3. Панфилов Ю. Нанесение тонких пленок в вакууме. «Технологии в электронной промышленности, №3’2007», С 76-80.
4. Смирнов В. И. Физико-химические основы технологии электронных средств. Учебное пособие. Ульяновск. 2005.
5. Сущенцов Н. И.. Основы технологии микроэлектроники. Лабораторный практикум. Йошкар-Ола. 2005.
6. Технология тонких пленок. Справочник. Под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга. Том 1. М.: Советское радио. 1977.
7. wikipedia.org – свободная энциклопедия.
Date: 2015-05-08; view: 841; Нарушение авторских прав; Помощь в написании работы --> СЮДА... |